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  • MOS管軟擊穿是什么,穿通擊穿原理解析
    • 發(fā)布時(shí)間:2025-05-20 18:41:44
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    MOS管軟擊穿是什么,穿通擊穿原理解析
    MOS管軟擊穿現(xiàn)象深度剖析
    在 MOS管的應(yīng)用進(jìn)程中,軟擊穿現(xiàn)象是備受關(guān)注的關(guān)鍵議題。深入探究這一現(xiàn)象,對提升 MOS 管的性能與可靠性有著不可替代的作用。
    一、MOS 管軟擊穿與穿通擊穿關(guān)聯(lián)解析
    MOS 管軟擊穿現(xiàn)象與穿通擊穿緊密相連。穿通擊穿具有獨(dú)特的特性,電流逐步增大和耗盡層展寬是其典型表現(xiàn)。當(dāng)源漏的耗盡層相接時(shí),源端載流子注入耗盡層,并在電場作用下加速運(yùn)動至漏端,致使電流急劇增大。這一過程是理解 MOS 管軟擊穿的關(guān)鍵所在。
    二、穿通擊穿詳盡原理
    穿通擊穿的發(fā)生場景側(cè)重于源漏之間的耗盡層相接之時(shí)。其表現(xiàn)特征為電流存在逐步增大趨勢以及急劇增大點(diǎn)。這源于耗盡層擴(kuò)展至較寬區(qū)域,從而產(chǎn)生較大電流。軟擊穿點(diǎn)同樣位于源漏耗盡層相接處,源端載流子注入耗盡層,被電場加速后抵達(dá)漏端,電流急劇增大。區(qū)別于雪崩擊穿,此時(shí)電流本質(zhì)更接近源襯底 PN 結(jié)正向?qū)娏?,而雪崩擊穿電流主要?PN 結(jié)反向擊穿產(chǎn)生的雪崩電流。穿通擊穿一般不會出現(xiàn)破壞性擊穿情況,因其場強(qiáng)未達(dá)雪崩擊穿場強(qiáng),難以產(chǎn)生大量電子空穴對。
    (一)穿通擊穿受多晶柵長度影響因素
    破壞性擊穿不會出現(xiàn) :由于穿通擊穿場強(qiáng)未達(dá)雪崩擊穿場強(qiáng),無法產(chǎn)生大量電子空穴對,故而不會出現(xiàn)破壞性擊穿。
    發(fā)生位置在溝道中間 :穿通不易發(fā)生在溝道表面,因溝道注入使表面濃度較大。對于 NMOS 管場效應(yīng)管,通常配備防穿通注入機(jī)制。相比之下,溝道中間的濃度較低,更易成為穿通擊穿的發(fā)生區(qū)域。
    鳥嘴邊緣濃度影響 :一般情況下,鳥嘴邊緣濃度高于溝道中間濃度,這導(dǎo)致穿通擊穿多發(fā)生在溝道中間。
    軟擊穿電流漸變特性 :耗盡層擴(kuò)展較寬,同時(shí) DIBL 效應(yīng)的發(fā)生,致使源襯底結(jié)正偏,電流呈現(xiàn)逐漸增大的特點(diǎn)。
    軟擊穿點(diǎn)電流特性 :源漏耗盡層相接時(shí),源端載流子注入耗盡層并被電場加速至漏端,電流增大。此時(shí)電流與雪崩擊穿電流不同,與源襯底 PN 結(jié)正向?qū)〞r(shí)電流相同。
    MOS管軟擊穿
    (二)穿通擊穿特點(diǎn)總結(jié)
    擊穿點(diǎn)軟特性 :擊穿過程中電流逐漸增大,一方面由于耗盡層擴(kuò)展較寬導(dǎo)致電流較大,另一方面耗盡層展寬易引發(fā) DIBL 效應(yīng),使源襯底結(jié)正偏呈現(xiàn)電流逐漸增大的特征。
    軟擊穿點(diǎn)電流急劇增大 :源漏耗盡層相接時(shí),源端載流子注入耗盡層被電場加速至漏端,電流出現(xiàn)急劇增大點(diǎn)。與雪崩擊穿時(shí)的電流急劇增大有本質(zhì)區(qū)別,此時(shí)電流相當(dāng)于源襯底 PN 結(jié)正向?qū)〞r(shí)的電流,而雪崩擊穿時(shí)的電流主要是 PN 結(jié)反向擊穿時(shí)的雪崩電流,若不限流,雪崩擊穿的電流更大。
    無破壞性擊穿優(yōu)勢 :穿通擊穿的場強(qiáng)未達(dá)到雪崩擊穿的場強(qiáng),不會產(chǎn)生大量電子空穴對,因此一般不會出現(xiàn)破壞性擊穿。
    發(fā)生位置傾向溝道體內(nèi) :穿通擊穿通常發(fā)生在溝道體內(nèi),溝道表面因溝道注入使表面濃度較大而不易發(fā)生穿通,對于 NMOS 管通常具備防穿通注入機(jī)制。
    多晶柵長度影響差異 :多晶柵長度對穿通擊穿有影響,隨著柵長度增加,擊穿概率增大。而對雪崩擊穿而言,雖然嚴(yán)格來說也受柵長度影響,但影響程度相對較小。
    三、防止穿通擊穿的有效策略
    為有效防止穿通擊穿,可采取以下策略:
    優(yōu)化器件結(jié)構(gòu) :通過精準(zhǔn)調(diào)整摻雜濃度來抑制耗盡區(qū)寬度的延展,從器件結(jié)構(gòu)層面降低穿通擊穿的風(fēng)險(xiǎn)。
    設(shè)計(jì)與制造優(yōu)化措施 :在設(shè)計(jì)階段充分考慮可能引發(fā)穿通擊穿的因素,并在制造過程中嚴(yán)格把控工藝參數(shù)、改進(jìn)版圖設(shè)計(jì)等,以避免或減少穿通擊穿的發(fā)生。
    靜電防護(hù)措施 :鑒于 MOS 管對靜電較為敏感,采取諸如在電路設(shè)計(jì)中增加靜電放電保護(hù)電路、在生產(chǎn)過程中采用防靜電措施等適當(dāng)?shù)撵o電防護(hù)手段,防止靜電放電導(dǎo)致的擊穿現(xiàn)象,這對于保障 MOS 管的性能和可靠性、延長其使用壽命至關(guān)重要。
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